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連續數日的飄飄細雨，令整個申城彷彿都蒙上了一層薄霧。
是較為難受的回潮天。
當然，這也是相對的。
像是方總就感受不到這天氣帶來的難受與黏膩。
眨眼便已經是3月下旬。
在週一的下午，上完了今日課程的方總走進了前沿辦公室，揹著雙手站在窗前看著外面淅淅瀝瀝的雨霧。
頗有種閒情逸致的味道。
“……”
好片刻後，溫葉才湊上來打破這種安靜：“方總，您要不現在聽聽彙報？”
沒錯，方年之所以會走進前沿辦公室的門，是溫葉喊來的。
方年輕輕點頭。
溫葉清了清嗓子：“是這樣的，白澤那邊已經完成了伺服器CPU的流片驗證工作，第一款測試級的伺服器CPU可用。”
聞言，方年回頭看了眼溫葉，走回了工位：“仔細說說，我記得這個月應該有不少專案完工。”
見狀，溫葉翻開資料夾，有條不紊的彙報起來。
“這款伺服器CPU採用了CB12指令架構，包含最新的Ex64指令集，在‘未竟’架構的基礎上借鑑了部分‘初’架構，合理的設計了8個核心，採用中芯40奈米制程流片而成；
僅流片了一次，便成功透過實際驗證；
不過各方面效能並不是很亮眼，但根據相關測試，大CPU專案組認為這樣一款CPU，可以提供足夠豐富的實測資料……”
聽溫葉停頓下來，方年晃晃手：“都說完吧。”
溫葉輕輕點頭，繼續往下說：“上週五，貴陽資料中心一期土建工程透過驗收，已經可以開始伺服器機組的安裝除錯工作。”
“……”
“上週四神龍211流片透過，神龍511流片透過，效能不達標，在調整後將進行第二次流片……”
“……”
“晶圓測試線月初正式啟動了試生產，光刻機的良率、穩定性等十分不理想，需要進行一定的調整；
據彙報，有望在下月進行65奈米制程試生產。”
似乎知道方年會有疑惑，說到這裡，溫葉特地補充了幾句：“DUV浸入式光刻實際上一直可以支援到7奈米制程的光刻；
根據晶圓試驗線的負責教授解釋：
傳統國際半導體技術藍圖定義光刻製程技術節點的是最小金屬間距。
又根據一個瑞利公式：CD=K1×（λ/NA），降低波長λ，提高鏡頭的數值孔徑NA，降低綜合因素K1，即可不斷演進光刻製程。
DUV鐳射光源從90年代末至今就一直是停滯在193nm波長；
不過有人提出了新的方案，一個工程上很簡單的辦法，在晶圓光刻膠上加1mm厚的水，水可以把193nm的光波長折射成134nm，再做到半週期65nm；
總之……
晶圓實驗室的教授很有信心保證能在較短時間內突破至65奈米光刻，之後可能會漫長一點，但也不會是太久遠的事情。”