有國內外的各類技術授權積累。
實驗室成員7成以上是博士，國內國外畢業的都有。
就說一個事情，勝遇已經申請了數千項通訊標準專利，多數是5G方面的。
但是基本沒交專利費。
是佔專利名額，利用專利法申請不交費廢止來做滾動性保護。
這樣既可以佔優先權，又可以不公開，透過一次又一次新的申請更新優先權延長專利保護期。
算是某種基操。
有意思的是，勝遇實驗室的研究並不怎麼花錢，除了技術儲備和基礎研發環境支出外，最大頭的支出居然是研發人員的薪資……
聽完彙報，腦子裡也開完小差的方總想了想，道：“下午召開一次聯合會議，需要有長光所等一些合作單位的參與。”
“我來協調。”行政主管連道。
“我會幫忙。”王院士跟著說道。
“……”
午後兩點，長光所副所長張學君等人，大部分合作的科研單位代表都來到了檮杌實驗室。
方年坐在居中位置。
神態輕鬆自如。
令人不敢忽視。
張學君也想起了兩年多前的那次會面，實在沒想到再見面時會是這樣的光景。
方年目光掃過與會眾人：“各位下午好，我是方年，初次見面，請多關照。”
“方總好。”
“方總太客氣了。”
“……”
簡單的寒暄過後，方年直截了當道：“恕我冒昧，為了不耽誤大家更多的時間，我就開門見山了。”
“廬州前沿正在建設一條12寸晶圓測試線，為了配合這條測試線，檮杌這邊將全面進軍EUV光刻研究，希望大家能給予必要支援。”
此話一出，眾人皆愣。
包括檮杌的王院士。
“EUV？”張學君挑了下眉，斟酌著說道，“方總，冒昧問一句，你好像對極紫外情有獨鍾？”
“理論上只有最尖端光刻需要用到極紫外光刻，DUV(深紫外借住浸入式方案理論上可以做到7nm光刻，似乎沒必要全面進軍EUV？”
“……”
在座眾人都是懂行人士，紛紛發表了各自的看法。
比如DUV技術積累等等問題。
畢竟檮杌實驗室名字裡的‘半導體裝置’五個字有85%是針對：
積體電路前道製造光刻機。
光刻機其實是個泛稱，內裡可細分為前道製造、後道封裝、應用於TFT(薄膜電晶體的光刻、應用於中小基底先進光刻等的光刻機。
一般大眾認知範圍內的光刻機是積體電路前道製造光刻機……
聽著大家的不同意見，方年微微一笑：“DUV不是有各位在努力嗎？”
“前沿不能白叫前沿這個名字，而且EUV這個領域基本上屬於贏家通吃，很符合前沿的目標。”
王院士立馬道：“可是ASML的EUV實驗機去年就運到了臺積電使用。”
“……”
“這個領域需要很龐大的投入。”
“……”